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ICP等离子刻蚀设备 research干法刻蚀设备
ICP等离子刻蚀设备 research干法刻蚀设备
  • ICP等离子刻蚀设备 research干法刻蚀设备

ICP等离子刻蚀设备 research干法刻蚀设备

产品报价:370000元

更新时间:2025/9/8 14:39:47

地:四川

牌:CMVAC

号:research

厂商性质: 生产型,

公司名称: 成都超迈光电科技有限公司

产品关键词: 超迈光电   干法刻蚀设备   刻蚀机   半导体设备  

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张先生 : (13908175536) (13908175536)

(联系我时,请说明是在来宝网上看到的,谢谢!)


反应离子刻蚀机主要用于介质薄膜干法刻蚀,包括SiO2、Si3N4、SiON、SiC等。

1.气体种类:O2、CF4、CHF3、SF6、BCl3等

2.基片尺寸:zui大支持8英寸,并向下兼容6、5、4、3、2英寸等以及破片

3.射频电源     ICP电源:13.56MHz,1400W; 偏压电源:13.56MHz,800W

4.工艺温度:10℃到80℃可控

5.传送模式:自动Loadlock传送系统



成都超迈光电科技有限公司

| 第2

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联系人:张先生

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QQ:610232092

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