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内分泌代谢药物制备,内分泌代谢药物粉末高剪切胶体磨
内分泌代谢药物制备,内分泌代谢药物粉末高剪切胶体磨
  • 内分泌代谢药物制备,内分泌代谢药物粉末高剪切胶体磨

内分泌代谢药物制备,内分泌代谢药物粉末高剪切胶体磨

产品报价:156800元

更新时间:2024/2/27 7:33:46

地:上海

牌:IKN

号:2000

厂商性质: 生产型,贸易型,

公司名称: 上海依肯机械设备有限公司

产品关键词: 可模拟工业化胶体磨   全进口研发型胶体磨   改良型胶体磨   内分泌代谢药物粉末胶体磨   内分泌代谢药物制备  

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曹小勇 : (13816150178) (13816150178)

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内分泌代谢药物制备,内分泌代谢药物粉末高剪切胶体磨,可模拟工业化胶体磨,全进口研发型胶体磨,改良型胶体磨


原料性质:

魔芋粉,本身还有筋不好打,某医药研究院的客户采用国内的胶体磨打完之后上面漂浮一层结块。后采用ikn高速胶体磨直接把上面漂块的一边出来打碎。也可采用在线式制备,循环式制备,根据工艺需求。


IKN胶体磨具有设计紧凑、实用新型,外形美观、密封良好、性能稳定、操作方便、装修简单、经久耐用、适应范围广、生产效益高等特点、是处理精Υ细物料最理想的加工设备。

它综合了均质机、球磨机、三辊机、剪切机、搅拌机等机械的多种性能,具有优越的超微粉碎、分散乳化、均质、混合等功效。物料通过加工后,粒度达250微米,均质度达90%以上,是超微粒加工的理想设备。

磨头结构:沟槽的结构式斜齿,每个磨头的沟槽深度不一样,并且斜齿的流道的体积从上往下是从大到下,而国内研磨机的斜齿的每个磨头的沟槽深度一样,流道体积是一样大,这样形成了本质的区别。我们德国进口胶体磨可以保证物料从上往下一直在进行研磨,而他们只能在一级磨头到另外一级磨头形成研磨效果。

可以通过变频调速,通过皮带加速 我们轴承可以承受14000RPM,(转速是国内研磨机的3-4倍,研磨的力度也是他们的3-4倍,这样研磨的细度更小)。德国博格曼双端面机械密封,易于清洗,将泄漏降至最低,可24小时不停运转双机械密封。



高剪切胶体磨.jpg

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上海IKN胶体磨与国nei胶体磨的性能比较:

一、转速和剪切速率:

IKN胶体磨,可选择德国机械密封,转速可以达到15000转

F=23/0.7X1000=32857S-1

F=40/0.7/X1000=57142S-1

国nei胶体磨,可选择机械密封一般3000转,大约在14293-215440S-1

通过转速比较可知,这是乳粉碎研磨的重要因素,相当于前者是后者的2-3倍。

二、胶体磨头和间距:

IKN胶体磨,可以选择六种不同的模块头,实现多种功能,如三级乳化模块,超高速模块,CM胶体模块,CMO胶体模块,批次粉液液混合模块,连续粉液混合模块,间距可调,可实现1-10微米小粒径材料加工。

国nei胶体磨,只有一种模块头,粒径细度有限,100微米以下较困难,重复性差。

三、机械密封:

IKN胶体磨,双机械密封,易于清洗,将泄漏降至最低,可24小时不停运转。

国nei胶体磨,单机械密封或轴封,泄漏故障率高,产品泄漏进入马达,造成马达烧毁。

四、清洗:

IKN胶体磨,立式,皮带驱动,易于维护,可有效保护马达及齿轮箱,防止损坏,符合流体流动原理,具有CIP/SIP在线清洗,在线杀菌功能,无需拆卸,机器设计无死角,立式结构符合流体原理,清洗更简便。

国nei胶体磨,卧式或立式(马达一体式),轴承部分受力较大,易于损坏,维护保养复杂,通常情况,需要拆卸机器进行清洗。

 

胶体磨的基本原理:
  胶体磨在电动机的高速转动下物料从进口处直接进入高剪切破碎区,通过一种特殊粉碎装置,将流体中的一些大粉团、粘块、团块等大小颗粒迅速破碎,然后吸 入剪切粉碎区,在十分狭窄的工作过道内由于转子刀片与定子刀片相对高速切割从而产生强烈摩擦及研磨破碎等。在机械运动和离心力的作用下,将已粉碎细化的物 料重新压入精磨区进行研磨破碎,精磨区分三级,越向外延伸一级磨片精度越高,齿距越小,线速度越长,物料越磨越细,同时流体逐步向径向作曲线延伸。每到一 级流体的方向速度瞬间发生变化,并且受到每分钟上千万次的高速剪切、强烈摩擦、挤压研磨、颗粒粉碎等,在经过三个精磨区的上千万次的高速剪切、研磨粉碎之 后,从而产生液料分子链断裂、颗粒粉碎、液粒撕破等功效使物料充分达到分散、粉碎、乳化、均质、细化的目的。液料的最小细度可达0.5um。


通过高速相对连动的定齿与动齿之间,使物料受到强大的剪切力,磨擦力及高频振动等作用,有效地被粉碎、乳化、均质、混合,从而获得满意的精细加工的产品

 

 

线速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。

 


从设备角度分析,影响粉碎,乳化,分散结果的因素有以下几点:

1 分散头的形式(批次式和连续式)(连续式比批次好)

2 分散头的剪切速率  (越大,效果越好)

3 分散头的齿形结构(分为初齿,中齿,细齿,超细齿,约细齿效果越好)

4  物料在分散腔体的停留时间,分散时间(可以看作同等的电机,流量越小,效果越好)

5 循环次数(越多,效果越好,到设备的期限,就不能再好)

 

速度的计算

剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。

– 剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)

g 定-转子 间距 (m)

由上可知,剪切速率取决于以下因素:

– 转子的线速率

– 在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。

IKN 定-转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm

速率V= 3.14 X D(转子直径)X 转速 RPM / 60

 

高剪切胶体磨.jpg


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