微波等离子化学气相沉积系统（合成光学级CVD金刚石）

产品特点概述

适用范围：生长大面积金刚石薄膜(4-10英寸，甚至更大)

生长速度：可高达几μm-几十μm/h，甚至更高；

生长范围：可在直径100mm范围内生长、或者在直径300mm范围内生长。

研究及小规模生产型：

微波功率：2.45GHz，6KW, 脉冲模式可选 (提高沉积速度和质量)；

样品台：3’’-4’’ diameter,旋转衬底可选（提高大面积均匀性）;

真空系统：oil pump/dry pump，TMP可选（营造高真空基准）；

控制方式：半自动或全自动(操作灵活)；

生长速率：高达30μm/h.

整体特点：专门生长大面积热沉级、光学级多晶薄膜配置，适合于研发、小规模生产。

大面积光学级金刚石厚膜生产研究型：

微波功率：915MHz，30KW；

水冷衬底：直径250mm或更大; 衬底加热和衬底旋转可选.

               4个4英寸衬底, heating and rotating each substrate upon request.

真空系统：vane pump / dry pump+TMP（营造高真空基准）；

控制系统：全自动控制（适合大批量生产）；

生长速率：高达30μm/h, 或更高速率

整体特点：专门大面积金刚石薄膜研究及生产配置；可获得4’’-10’’光学级金刚石厚膜（several mm thicknesses），也可以用于研究合成diamond dome.

生长大面积光学窗口（红外窗口、激光输出窗口）、探测窗口、微波窗口等，请详细咨询！