曝光机

曝光机,

URE-2000/17型光刻机技术性能与配置 
该光刻机技术特征
1．光学系统：采用多点反射镜聚光和实现均匀照明，反射镜采用梯形反射镜，国内其他机型采用矩形反射镜，URE-2000/17具有更高的能量收集效率（Ф100mm范围内功率密度大于6mW/cm²）和照明均匀性(Ф100mm范围内均匀性可达±4%，国内同类一般低于±4%)。波长单一，光谱纯净。
2.照明光源汞灯:采用进口直流高压汞灯，光功率稳定。
3．操作十分方便：
（1）抽拉式掩模，同一块掩模多次曝，无须上下掩模。
（2）触摸开关操作，手感好，参数设置方便。
（3）数字设定曝光时间，倒计时曝光，曝光量可精确控制。
4．工艺适应性非常好，可适应的片子范围可达f10-f100mm的各种规则和不规则片,厚度可适应0.1mm—8mm。
掩模可适应2.5英寸、3英寸、4英寸、5英寸。这些所需的样片台和掩模吸盘均免费提供。国内同类大部分的样片台和掩模吸盘要么不能提供，要么收费提供。
5.对准显微镜：高倍率双目双视场显微镜和19英寸宽屏液晶显示同时观察对准过程，既保证大视场又保证高倍率（最大倍率可达700倍）并提供USB输出；既满足高精度对准，又可用于检测曝光结果，且曝光结果和方便存储。国内同类采用两个简易的单筒显微镜+CCD，不能目视，既不方便两个视场观测对准标记，在保证高倍率时不能保证大视场，保证大视场则不能保证高倍率。
6．   附件：真空泵配置无油干泵，既无污染，噪音也小。
7．外型：漂亮
（1）   计算机色套红色，非常漂亮（是其它厂商无法比的）
（2） 80%以上零件采用防绣材料，其余材料采用表面处理方法。
（3）   人机操作十分舒适
（4）   气管、电线：走暗线（国内同类一般管线凌乱）
8.品牌优势，该光刻机型号占有最大市场份额，已经出口过6台，售后服务有保证。
二．主要技术参数l   曝光面积：Ф100mm；
1、分辨力：1.7mm（胶厚2mm的正胶）；
2、对准精度：±1mm；
3、掩模样片整体运动范围：X：6mm;Y:6mm；
4、 掩模尺寸：2.5英寸、3英寸、4英寸、5英寸；
5、样片尺寸：直径Ф15mm--Ф100mm、厚度0.1mm--6mm(可扩展为15mm)；

   照明均匀性：±4%（Ф100mm范围）；
6、掩模相对于样片运动行程：X:±5mm;  Y:±5mm; q: ±6度；
7、汞灯功率：200W（直流）；
8、曝光波长：365nm；
9 曝光能量密度：6mW/cm；l   曝光方式：定时（倒计时方式）。

应用领域 
集成电路芯片、电子封装、微电子机械系统、微光学元件、红外探测器、生物电泳芯片、激光二极管光刻、光栅光刻，波导阵列光刻、液晶显示、声表器件、平板显示器、大尺寸光栅、

码盘刻划等