合创鸿业向用户提供高品质的LMC-2000磁控溅射仪磁控镀膜仪,是专用于高倍扫描电镜(SEM)图像和电极制备的金属镀膜系统,成膜精细致密,能够极为很好的提高电镜观测效果。
主要用途: 制备金、铂、银、铜、锡、锌、铟、锑等金属薄膜
LMC-2000磁控溅射仪磁控镀膜仪
技术特点:
LMC-2000磁控溅射仪磁控镀膜仪
仪器参数
1.1 显示屏: 5英寸 800×480 彩色触摸屏
1.2 真空室: 高硅硼玻璃 φ125×125mm
1.3 可用靶材: 金、铂、银、铜、锡、锌、铟、锑等金属
1.4 真空系统: 1.1L/S 真空旋片泵
1.5 靶材尺寸:φ57×0.12mm
1.6 工作电流:5-45mA连续可调
1.7 工作时间:1-999s连续可调
1.8 工作气体: 空气或氩气
1.9 产品尺寸: 424(L)×271(D)×255(H)
LMC-2000磁控溅射仪磁控镀膜仪
应用案例
电池隔膜10万倍(喷铂)
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