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美国TRION公司Orion III等离子增强化学气相沉积系统PECVD
美国TRION公司Orion III等离子增强化学气相沉积系统PECVD
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美国TRION公司Orion III等离子增强化学气相沉积系统PECVD

产品报价:30元

更新时间:2018/10/19 11:38:09

地:美国

牌:Trion

号:Orion III

厂商性质: 生产型,贸易型,服务型,

公司名称: 北京创世杰科技发展有限公司

产品关键词: RIE   反应离子刻蚀机   等离子增强化学气相沉积   PECVD   ICP  

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张先生 : (13911514522) (010-13911514522)

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北京创世杰公司提供美国Trion公司的Orion III系列等离子增强化学气相沉积系统PECVDPhantom III系列反应离子刻蚀系统(RIEDRIEICP等)和Apollo型等离子去胶机。美国Trion公司为化合物半导体、MEMS(微机电系统)、光电器件以及其他半导体市场提供多种等离子工艺设备。Trion产品在业内以系统占地面积最小,成本合理而著称,且设备及工艺可靠性和稳定性久经考验。产品线既包含成套的批量生产设备,也有用于科研开发的系统。

 

Orion III 等离子增强型化学气相沉积系统PECVD

设备主要性能指标:

1. 适于实验室和小规模生产线

2. 适合沉积氧化硅、氮化硅、氮氧化硅以及非晶硅等薄膜

3. 可使用的工艺气体:SiH4(含量<20%)、NH3、TEOS、SiH2Cl2、N2O、O2以及N2等

4. 基片台尺寸为200mm或300mm

5. 最大基片尺寸300mm,兼容更小尺寸的基片

6. 标配功率300W、频率350-460kHz的等离子激发源(底部源)

7. 从反应腔室顶盖处直接装卸基片

8. 配备工艺压力下游自动控制系统

9. 标配4路,最多8路质量流量计控制的工艺气路,采用超洁净管路及VCR接头

10. 基于计算机的配方式工艺控制系统,彩色触摸屏操控

11. (可选)增加功率600W、频率13.56MHz的高密度等离子激发源(顶部源),优化薄膜应力控制

12. (可选)基片加热温度控制50℃至400℃

13. (可选)油泵、干泵及分子泵

14.  (可选)Loadlock预真空锁腔室

15.  (可选)ICP电感应耦合等离子源

同时,本公司除了提供等离子增强化学气相沉积系统PECVD外,还可以提供美国Trion公司用于批量生产型的Titan型和Oracle III型多腔室型生产型的等离子增强化学气相沉积系统PECVD和反应离子刻蚀系统RIE(含ICPHDICP、深硅刻蚀等)。


北京创世杰科技发展有限公司

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